口腔定位部分速記法 ：

1.微笑時(shí)，唇高線（上唇下緣）在上頜中切牙的23；

2.大笑時(shí)，唇高線與唇低線分別為，上下頜中切牙的全部；

3.垂直距離等于息止頜位距離減去2--4mm；

4.在石膏模型上制作后堤區(qū)時(shí)，最寬處的寬度為5.0mm；

5.下頜基托一般應(yīng)蓋過(guò)磨牙后墊13--12；

6.合平面堤與上唇下緣的關(guān)系是唇下2mm；

7.灌注無(wú)牙合石膏模型時(shí)，其厚度不應(yīng)少于10mm；

8.微笑時(shí)。唇低線（下唇上緣）在下頜中切牙的12；

9.在石膏模型上制作后堤區(qū)時(shí)，最深處的深度為1.0--1.5mm；

10.解剖式人工牙的牙尖斜度30--33°醫(yī)學(xué)教育網(wǎng)搜集整理；

11.半解剖式人工牙的牙尖斜度20°；

12.非解剖式人工牙的牙尖斜度0°；

13.上頜側(cè)切牙的切緣距離合平面1mm；

14.下頜中切牙切緣高出合平面1mm；

15.上頜前磨牙頰尖接觸合平面，舌尖離開(kāi)合平面約1mm；

16.上頜第一磨牙遠(yuǎn)中舌尖，近中頰尖與遠(yuǎn)中頰尖離開(kāi)合平面1mm；

17.上頜第二磨牙舌尖離開(kāi)合平面1mm近中頰尖高出合平面2mm遠(yuǎn)中頰尖高出合平面2.5mm；